该厂为85英寸晶圆生孩子线搭配的超注射用水模式，每次产生了含硅废水正确处理方法150吨。废水正确处理方法中虽无高价属，但硅分子量高易积垢，且电容率需提高18MΩ·cm性能回收利用。原本有正确处工院艺没办法够满足新出台的《电子厂工业生产水被污染的物排污标准》（GB39731-2020）格外排污卫生防护距离。 电镀废水营养成分共同点 最主要污染问题物 ：胶体溶液硅（200-300mg/L）、粒子硅（粒度分布0.1-1μm） 特定规范 ：TOC<10μg/L，硼硫含量<5μg/L 水体基本特征 ：低导电率（<50μS/cm）但硅有机化合物体型复杂化 净化处理工艺设备方法 去创新主要包括"梯级膜分離+电去亚铁离子"结合加工： 微滤预处里 ：1μm卫浴陶瓷膜电话拦截大粒子硅，通量形成80LMH 亚铁离子传递硅胶粘合剂 ：D201大孔硅胶粘合剂考虑性吸附性硅酸大分子 二次元RO系统化 ：一、段收旧率60%，2.段主要包括高脱硼膜pcb板 EDI电去阴阳离子 ：电流值孔隙率2A/m²，一直快速清理多余铁离子 太阳光的紫外线消毒 ：254nm紫外光线使用量40mJ/cm² 水平成效 激发转用阻硅剂（巧妙胺类结合物），推迟膜污染破坏周期长3倍 EDI控制器自主创新流道方案，硅避开率升降至99.8% 网络硅进行检测仪（测定空间0.1-500μg/L）完成深度贫困掌控 程序运行成果 经第3方在线检测： 总硅从280mg/L下降0.05mg/L 硼量从8μg/L低于0.3μg/L 设计收购 率从原40%增加至68% 膜换新周期怎么算延伸至5年，年行驶投入降底35%