南京某光电器件进行进行处理芯片制造技术厂，晶圆加工进行进行处理工作中存在含硅、氟的特种焦化焦化废水，设定进行进行处理产值1200吨/日。焦化焦化废水的成分复杂化，包含的nm级硅粒子及盐酸，传统型进行进行处理步骤未能达到标准。 废污水化学物质及源 通常严重环境有害特性 ：固体硅（100-500nm颗粒直径）、氟正离子（200-300mg/L）、异丙醇 来自工艺程序 ：晶圆刻蚀废渣处理（45%）、CMP普通机器机器磨光废渣处理（40%）、设配冲刷水（15%） 治疗方法注意事项 革新采用了"物理沉淀物+特种车膜分开"新技术行车路线： 钙盐滤渣 ：加药系统氯化钙彻底清除氟铝离子（转成CaF2结晶） 斜管沉淀池不良反应 ：组合斜板沉淀池剂达到溶液硅脱稳 管式微滤 ：0.1μm内径膜截流微细粒状 超滤性和系统化 ：脱盐率>98%，回收并率75% 蒸馏沉淀 ：浓水段达到氟化物零释放 之后成果 氟化物含量：<8mg/L（压低欧洲国家3级标准10mg/L） 硅水分含量：<5mg/L 水资原工业废水处理率：70%适用于闭式闭式冷却塔塔补充水分 危险废弃物减药：蒸发器残留量较传统与现代生产工艺避免60%